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產(chǎn)品展示
  • CleanMill氬離子研磨系統

    CleanMill氬離子研磨系統為電池樣品SEM表征提供高質(zhì)量的制樣方案,傳統的機械研磨方式制備樣品斷面,斷面不可避免的存在機械損傷和磨料嵌入樣品引起的污染。使用氬離子束切割樣品制備,可以制備出沒(méi)有機械損傷和表面污染的平整斷面,非常適用于 制備電池材料和部件的斷面樣品,從而進(jìn)行掃 描電子顯微鏡結構表征分析。

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    更新日期:2023-03-20
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  • XTrace-基于SEM高性能微區熒光光譜儀

    XTrace-基于SEM高性能微區熒光光譜儀采用了X射線(xiàn)毛細導管技術(shù),利用該技術(shù),即使在非常小的樣品區域也能產(chǎn)生很高的熒光強度。X射線(xiàn)毛細導管將X射線(xiàn)源的大部分射線(xiàn)收集,并將其聚焦成直徑35微米的一個(gè)X射線(xiàn)點(diǎn)。

    訪(fǎng)問(wèn)量:1610
    更新日期:2023-03-20
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  • 精密刻蝕鍍膜系統PECS II 685

    精密刻蝕鍍膜系統PECS II 685,一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。對于同一個(gè)樣品,可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。

    訪(fǎng)問(wèn)量:2180
    更新日期:2023-03-20
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  • ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統

    ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統,是一款*的產(chǎn)品。它具有高效的光學(xué)采集和色散能力,采用陣列光電倍增管得到高增益光探測能力。通過(guò)DigitalMicrograph軟件實(shí)時(shí)地將光子脈沖信號混合成實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光圖像。

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    更新日期:2023-03-20
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  • Gatan原位加熱臺Murano 525

    Gatan原位加熱臺Murano 525,精悍緊湊,能方便地與大多數掃描電鏡的標準樣品臺接口,它包含一個(gè)絕熱接口,適用于二次電子像、電子背散射衍射(EBSD)與聚焦離子束(FIB)加工。能夠對大至9mm x 4.5mm x 1.5mm大小的樣品進(jìn)行快速加熱。

    訪(fǎng)問(wèn)量:2047
    更新日期:2023-03-20
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  • MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗臺

    MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗臺,可以對金屬樣品施加高達2000N的拉力,用戶(hù)EBSD分析,或者對一些其他材料進(jìn)行常規的應力-應變分析和SEM成像。試樣夾具70度角度傾斜,為EBSD分析提供了的設置。

    訪(fǎng)問(wèn)量:1875
    更新日期:2023-03-20
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