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環(huán)境真空掃描電鏡

環(huán)境真空掃描電鏡

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  • 更新日期:2023-03-28
  • 產(chǎn)品介紹:Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡為具有環(huán)境真空功能的靈活、多功能高分辨率掃描電鏡,可以將成像和分析全面性能與環(huán)境模式(ESEM)相結合,使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口價(jià)格區間面議
儀器種類(lèi)場(chǎng)發(fā)射應用領(lǐng)域化工,石油

Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡為具有環(huán)境真空功能的靈活、多功能高分辨率掃描電鏡,可以將成像和分析全面性能與環(huán)境模式(ESEM)相結合,使得樣品研究得以在自然狀態(tài)下進(jìn)行。

 

Quattro的場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)‵EG)確保了優(yōu)異的分辨率,通過(guò)不同的探測器選項,可以調節不同襯度信息,包括定向背散射、STEM和陰極熒光信息。來(lái)自多個(gè)多個(gè)探測器和探測器區分的圖像可以同步采集和顯示,使得單次掃描即可獲得樣品信息,從而降低電子束敏感樣品的束曝光并實(shí)現真正額動(dòng)態(tài)試驗。Quattro的三種真空模式使得系統具有靈活性,可以容納廣泛的樣品類(lèi)型,無(wú)論樣品導電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下,均可獲得可靠的分析結果。Quattro*的硬件有用戶(hù)向導支持,不僅可以指導操作者,還可以直接進(jìn)行交換,輕松縮短結果獲取時(shí)間。

 

金屬及合金、斷口、焊點(diǎn)、拋光斷面、磁性及超導材料
陶瓷、復合材料、塑料
薄膜/涂層
地質(zhì)樣品斷面、礦物
軟材料:聚合物、藥物、濾膜、凝膠、生物組織、植物材料
顆粒、多孔材料、纖維
水合/脫水/濕潤/接觸角分析
結晶/相變
氧化/催化
材料生成
拉伸(伴隨加熱或冷卻)

 

發(fā)射源:高穩定型肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍

分辨率:

型號

Quattro C

Quattro S

高真空

30kV(SE)

1.0nm

1kV(SE)

3.0nm

低真空

30kV(SE)

1.3nm

3kV(SE)

3.0nm

30kV(BSE)

2.5nm

環(huán)境掃描模式

30kV(SE)

1.3nm


放大倍率:6 ~ 2,500,000×
加速電壓范圍:200V ~ 30kV
探針電流范圍:1pA – 200nA,連續可調
X-Ray工作距離:10mm,EDS檢出角35°
樣品室:從左至右為340mm寬的大存儲空間,樣品室可拓展接口數量12個(gè),含能譜儀接口3個(gè)(其中2個(gè)處于180°對角位置)

 

樣品臺和樣品:

 

探測器系統:

同步檢測多達四種信號,包括

樣品室高真空二次電子探測器ETD
低真空二次電子探測器LVD
氣體SED(GSED,用于環(huán)境掃描模式)
樣品室內IR-CCD紅外相機(觀(guān)察樣品臺高度)
可用于樣品導航的彩色光學(xué)相機Nav-Cam™


控制系統:
操作系統:64為GUI(Windows10)、鍵盤(pán)、光學(xué)鼠標
圖像顯示:24寸LCD顯示器,WUXGA 1920×1200
定制化的圖像用戶(hù)界面,可同時(shí)激活多達4個(gè)視圖
導航蒙太奇
軟件支持Undo和Redo功能

 

Quattro SEM環(huán)境真空掃描電鏡特點(diǎn)與用途:

    在自然狀態(tài)下對材料進(jìn)行預案為研究,具有環(huán)境真空模式(ESEM)的*高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡;

    縮短樣品制備時(shí)間:低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對不導電和/或含水樣品直接成像和分析,樣品表面無(wú)荷電累積;
    在各種操作模式下分析導電和不導電樣品,同步獲取二次電子像和背散射電子像;
    優(yōu)良的分析性能,樣品倉可同時(shí)安裝3三個(gè)EDS探測器,其中2個(gè)EDS端口分開(kāi)180°、WDS和共勉EDS/EBSD;
    針對不導電樣品的分析性能:憑借“壓差真空系統”實(shí)現低真空模式下的EDS和EBSD分析;
    靈活、準確的優(yōu)中心樣品臺,105°傾斜角度范圍,可多方位觀(guān)察樣品;
    軟件直觀(guān)、簡(jiǎn)便易用,并配置用戶(hù)向導及Undo(撤銷(xiāo))功能,操作步驟減少,分析更快速;
     創(chuàng )新選項,包括可伸縮RGB陰極熒光(CL)探測器、1100℃高真空熱臺和AutoScript。

 

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